?①模塊化設(shè)計(jì)與集成：激光退火設(shè)備通常采用整機(jī)模塊化設(shè)計(jì)與集成，這種設(shè)計(jì)方式使得設(shè)備能夠兼容多種尺寸的薄片晶圓，如4、6、8英寸等。

②激光整形技術(shù)：設(shè)備集成了自研的成熟好的激光整形技術(shù)，確保光斑能量高度均勻且穩(wěn)定，從而提高退火處理的效果和一致性。
③優(yōu)異的退火效果：退火后，材料表面均勻、平整，表現(xiàn)出優(yōu)秀的電學(xué)特性及表面形貌特征。這對(duì)于提高材料的性能和穩(wěn)定性具有重要意義。

④嚴(yán)格的含氧量控制：設(shè)備嚴(yán)格控制腔體含氧量，以有效控制表面碳析出量和分布，減少因含氧量過(guò)高而導(dǎo)致的材料性能下降問題。

⑤監(jiān)控與補(bǔ)償系統(tǒng)：配置有監(jiān)控與補(bǔ)償系統(tǒng)，用于監(jiān)測(cè)光學(xué)能量穩(wěn)定性和非退火面溫度，確保退火過(guò)程的穩(wěn)定性和可控性。

⑥符合標(biāo)準(zhǔn)與通信支持：配備EFEM傳輸系統(tǒng)，整機(jī)符合SEMI標(biāo)準(zhǔn)，并支持SECS-GEM通信協(xié)議，便于與其他生產(chǎn)設(shè)備進(jìn)行集成和通信。