?①模塊化設(shè)計與集成:
激光退火設(shè)備通常采用整機模塊化設(shè)計與集成,這種設(shè)計方式使得設(shè)備能夠兼容多種尺寸的薄片晶圓,如4、6、8英寸等。
②激光整形技術(shù):設(shè)備集成了自研的成熟好的激光整形技術(shù),確保光斑能量高度均勻且穩(wěn)定,從而提高退火處理的效果和一致性。
?
③優(yōu)異的退火效果:退火后,材料表面均勻、平整,表現(xiàn)出優(yōu)秀的電學(xué)特性及表面形貌特征。這對于提高材料的性能和穩(wěn)定性具有重要意義。
④嚴(yán)格的含氧量控制:設(shè)備嚴(yán)格控制腔體含氧量,以有效控制表面碳析出量和分布,減少因含氧量過高而導(dǎo)致的材料性能下降問題。
⑤監(jiān)控與補償系統(tǒng):配置有監(jiān)控與補償系統(tǒng),用于監(jiān)測光學(xué)能量穩(wěn)定性和非退火面溫度,確保退火過程的穩(wěn)定性和可控性。
⑥符合標(biāo)準(zhǔn)與通信支持:配備EFEM傳輸系統(tǒng),整機符合SEMI標(biāo)準(zhǔn),并支持SECS-GEM通信協(xié)議,便于與其他生產(chǎn)設(shè)備進行集成和通信。